Round Lab – Pine Calming Cica Pad, Renewal, 50pcs

Dwustronne płatki do pielęgnacji nasączone w 51% Pine Cica Activer, unikalnym kompleksem ekstraktu z liści sosny, glikoprotein i pięciu składników aktywnych pochodzących z wąkroty, które łagodzą uczucie gorąca, zaczerwienienie i podrażnienie zmęczonej skóry.

After cleansing, take one pad and gently wipe across the entire face, avoiding the eye area. For intensive spot care, place a pad on troubled or red areas for 3 to 5 minutes. To use as a hydrating mask, lay the smooth side down on clean skin for about 10 minutes before continuing with the rest of your routine.

Pinus Densiflora Leaf Extract, Water, Propanediol, Dipropylene Glycol, 1,2-Hexanediol, Centella Asiatica Extract, Betaine, Sodium Hyaluronate, Butylene Glycol, Caprylyl Glycol, Centella Asiatica Leaf Extract, Cinnamomum Camphora (Camphor) Leaf Extract, Panthenol, Glycoproteins, Ethylhexylglycerin, Dipotassium Glycyrrhizate, Melia Azadirachta Leaf Extract, Melia Azadirachta Flower Extract, Madecassoside, Asiaticoside, Asiatic Acid, Madecassic Acid, Hydroxyacetophenone, Gluconolactone, Capryloyl Salicylic Acid, C12-14 Pareth-12, Succinic Acid, Ammonium Acryloyldimethyltaurate/VP Copolymer, Sodium Citrate, Pantolactone, Disodium EDTA

• Zarejestrowane w CPNP i oznaczone znakiem UE — gotowe do odsprzedaży
• Wysyłka z naszego magazynu w Wiedniu 1–2 dni robocze po płatności
• Zamówienie od 500 EUR, dowolna kombinacja produktów spośród ponad 85 marek K-beauty — bez minimalnej liczby sztuk
• Szklane opakowania i pompki są pakowane w wyściełane opakowania i sprawdzane — w przypadku uszkodzenia produkt jest wymieniany lub zwracamy pieniądze
• W zestawie torebki na próbki do ekspozycji na ladzie
• Ceny hurtowe są widoczne po zatwierdzeniu konta handlowego

• Faktura ze szczegółowym wyszczególnieniem pozycji z kodem EAN w każdym wierszu
• Na życzenie: numer referencyjny CPNP, lista INCI oraz dane osoby odpowiedzialnej w UE
• Na życzenie: dokumentacja łańcucha dostaw na potrzeby oświadczeń o autentyczności na marketplace'ach